壓力表：主要設(shè)在泵前、泵后、濃水、產(chǎn)水側(cè)，顯示反滲透裝置的運(yùn)行壓力，根據(jù)壓力數(shù)值判斷膜及濾芯是否堵塞。

水在加熱過程中，由于蒸發(fā)濃縮，水中的金屬陽離子同陰離子結(jié)合在一起，形成水垢附著在受熱面上，水中這些金屬離子的總濃度稱為水的硬度。

超純水廣泛應(yīng)用于電子芯片、醫(yī)藥生物、精細(xì)化工等其他行業(yè)，理論電阻率最高為18.25 MΩ·cm。 在EDI裝置后，通常配備拋光混床作為最終的精處理裝置，設(shè)計(jì)流速一般為40-60m/h。

在集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，其中包括硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。

化工行業(yè)中的純水主要應(yīng)用于電池溶劑用水、化學(xué)分析、化工材料、產(chǎn)品清洗、物質(zhì)的分離、濃縮、提純等產(chǎn)線，純水電導(dǎo)率0.1uS/cm-15uS/cm即可滿足要求。

在純水設(shè)備中通過前置預(yù)處理裝置，對(duì)原水進(jìn)行初步的過濾，達(dá)到反滲透主機(jī)的進(jìn)水要求。

超純水設(shè)備采用高精密器件，無易損件，只需按時(shí)對(duì)設(shè)備進(jìn)行維護(hù)保養(yǎng)，就可以增加設(shè)備使用時(shí)間。

光電產(chǎn)業(yè)超純水設(shè)備由石英砂過濾器、活性炭過濾器、軟化器和精密過濾器組成預(yù)處理系統(tǒng)，主要設(shè)備有反滲透裝置、EDI模塊。傳統(tǒng)的超純水設(shè)備采用陰陽混床裝置，如今EDI技術(shù)取代了混床的應(yīng)用。

在反滲透系統(tǒng)中，RO膜是至關(guān)重要的，其性能不僅直接影響水質(zhì)以及產(chǎn)水量，同時(shí)也是整個(gè)系統(tǒng)能夠穩(wěn)定運(yùn)行的關(guān)鍵。因此需要對(duì)設(shè)備進(jìn)行定時(shí)的維護(hù)和保養(yǎng)。